Concept
Trihydrure d'arsenic
Concepts associés (15)
Lewisite
La lewisite (2-chlorovinyldichlorarsine) est un composé organique de l'arsenic (arsine halogénée), qui se présente comme un liquide huileux, utilisé comme agent toxique de guerre lors de la Première Guerre mondiale et la guerre sino-japonaise (1937-1945). Elle fait partie de la catégorie des vésicants ; elle irrite puis attaque et détruit l'épiderme ou les muqueuses des voies aérorespiratoires ou digestives et qui brûle et érode la cornée et la face interne des paupières.
Test de Marsh
Le test de Marsh ou test de Marsh-Berzelius est une méthode très sensible dans la détection de l'arsenic, particulièrement utile dans le domaine de la toxicologie médico-légale lorsque l'arsenic était utilisé comme poison. Il a été initialement développé par James Marsh et publié en 1836 (développé possiblement avant). L'arsenic, sous forme de trioxyde d'arsenic blanc As2O3, était un poison très apprécié, étant inodore, facilement incorporé dans les aliments et les boissons, et avant l'avènement du test de Marsh, introuvable dans le corps.
Dopage (semi-conducteur)
Dans le domaine des semi-conducteurs, le dopage est l'action d'ajouter des impuretés en petites quantités à une substance pure afin de modifier ses propriétés de conductivité. Les propriétés des semi-conducteurs sont en grande partie régies par la quantité de porteurs de charge qu'ils contiennent. Ces porteurs sont les électrons ou les trous. Le dopage d'un matériau consiste à introduire, dans sa matrice, des atomes d'un autre matériau. Ces atomes vont se substituer à certains atomes initiaux et ainsi introduire davantage d'électrons ou de trous.
Composé organo-arsénié
Les composés organoarséniés ou composés organoarsenicaux sont des composés organométalliques caractérisés par une liaison chimique entre un atome d'arsenic et un de carbone. Ces composés de l'arsenic relèvent donc de la chimie organique. Malgré leur toxicité, les molécules organoarséniées ont été et sont encore très utilisées.
Acide cacodylique
L'acide cacodylique est un composé organo-arsénié de formule (. Les dérivés de l'acide cacodylique, les cacodylates, sont fréquemment utilisés comme herbicides. Par exemple, l'« agent bleu », un des défoliants utilisés durant la Guerre du Viêt Nam, était un mélange d'acide cacodylique et de cacodylate de sodium. Le cacodylate de sodium est couramment utilisé comme agent tampon dans la préparation et la fixation d'échantillons biologiques pour la microscopie électronique à transmission.
Intoxication à l'arsenic
L’intoxication à l’arsenic est un empoisonnement provoqué par l’arsenic. On le dit aigu (en cas de forte dose) ou chronique (exposition longue à de faibles doses). La principale source d'intoxication chronique dans le monde semble être l'eau de forage qui dans plusieurs pays ou régions est naturellement chargée en arsenic. Selon une étude publiée en 2007, plus de 137 millions de personnes, vivant dans plus de 70 pays sont probablement affectées par une intoxication chronique à l'arsenic à partir de l'eau de boisson.
Triméthylarsine
Le triméthylarsine est un composé chimique de formule chimique (, communément abrégée en AsMe3. C'est un dérivé organique de l’arsine (), découvert en 1854 mais ce n’est qu’en 1893 que le chimiste Italien a publié les résultats de ses travaux sur le gaz toxique dit « Gaz Gosio », (Gaz qui s’est ensuite avéré être du triméthylarsine). Il est notamment utilisé comme source d’arsenic par l’industrie de la microélectronique. C'est un liquide incolore, toxique, de masse molaire , de n°CAS , légèrement soluble dans l’eau, soluble dans divers solvants organiques.
Épitaxie
L'épitaxie est une technique de croissance orientée, l'un par rapport à l'autre, de deux cristaux possédant un certain nombre d'éléments de symétrie communs dans leurs réseaux cristallins. On distingue l'homo-épitaxie, qui consiste à faire croître un cristal sur un cristal de nature chimique identique, et l'hétéro-épitaxie, dans laquelle les deux cristaux sont de natures chimiques différentes. Étymologiquement, « épi » en grec signifie « sur » et « taxis », « arrangement ».
Dépôt chimique en phase vapeur
vignette|Schéma d'un CVD Le dépôt chimique en phase vapeur (ou CVD pour l'anglais chemical vapor deposition) est une méthode de dépôt sous vide de films minces, à partir de précurseurs gazeux. La CVD est un procédé utilisé pour produire des matériaux solides de haute performance, et de grande pureté. Ce procédé est souvent utilisé dans l'industrie du semi-conducteur pour produire des couches minces. Dans un procédé CVD typique, le substrat est exposé à un ou plusieurs précurseurs en phase gazeuse, qui réagissent et/ou se décomposent à la surface du substrat pour générer le dépôt désiré.
Implantation ionique
L'implantation ionique est un procédé d'ingénierie des matériaux. Comme son nom l'indique, il est utilisé pour implanter les ions d'un matériau dans un autre solide, changeant de ce fait les propriétés physiques de ce solide. L'implantation ionique est utilisée dans la fabrication des dispositifs à semi-conducteurs, pour le traitement de surface des métaux, ainsi que pour la recherche en science des matériaux. Les ions permettent à la fois de changer les propriétés chimiques de la cible, mais également les propriétés structurelles car la structure cristalline de la cible peut être abîmée ou même détruite.