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Cette séance de cours porte sur les principes et les applications du dépôt chimique de vapeur (CVD) dans les procédés de micro et de nanofabrication. Il explique l'équipement CVD, le processus et les aspects clés tels que la thermodynamique, la cinétique de croissance des films minces et les conditions d'écoulement des gaz. La séance de cours traite également d'une méthode d'encapsulation à l'échelle des wafers des dispositifs MEMS et fournit des exemples de réactions et d'équipement CVD.