Cette séance de cours traite du comportement des niveaux de Fermi dans les semi-conducteurs, en particulier en se concentrant sur un échantillon de silicium dopé au phosphore. L'instructeur présente une série d'exercices qui analysent le niveau de Fermi à différentes températures: 300 K, 600 K et 77 K. À 300 K, la relation entre la concentration de porteurs de charge et le niveau de Fermi est établie, montrant que tous les atomes donneurs sont ionisés. Lorsque la température augmente jusqu'à 600 K, la concentration intrinsèque en porteurs augmente de manière significative, affectant la position du niveau de Fermi. L'instructeur explique comment la pente de la distribution d'énergie change avec la température, en mettant l'accent sur la transition d'un comportement extrinsèque à un comportement intrinsèque. À 77 K, la discussion se déplace vers la région de congélation, où tous les atomes dopants ne sont pas ionisés, ce qui entraîne une réduction drastique de la concentration de porteurs. La séance de cours se termine par une comparaison des statistiques de Fermi-Dirac et Boltzmann, soulignant la complexité des calculs à basse température et l'importance de comptabiliser avec précision les dopants ionisés.