Avancées dans la Métaoptique Ultraviolette Extrême

Cette séance de cours traite de l'utilisation innovante de la lumière ultraviolette extrême (EUV) dans la physique de l'attoseconde et la lithographie des semi-conducteurs. L'instructeur présente les défis posés par l'absorption de la lumière EUV par tous les matériaux en raison de sa forte énergie photonique, ce qui limite la disponibilité de l'optique transmissive. Pour y remédier, des métasurfaces ultraminces sont introduites, constituées de millions de nanopiliers à indice de réfraction élevé sur des substrats plats. Ces métasurfaces permettent la manipulation de la phase spatiale de la lumière à une échelle sub-longueur d'onde, une technique qui transforme la manipulation de la lumière visible. La séance de cours explore en outre le potentiel des trous de silicium en tant que structures de guidage pour la lumière EUV, détaillant la création et la caractérisation de la métaoptique pour un rayonnement de 50 nm. L'instructeur met en évidence les processus de fabrication et les diverses applications qui découlent de ces progrès, marquant une étape importante vers l'optique transmissive universelle dans le spectre EUV.