Tsung-Han Lin

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Tsung-Han Lin

Low Temperature Wet Conformal Nickel Silicide Deposition for Transistor Technology through an Organometallic Approach

Monolayer Doping of Silicon through Grafting a Tailored Molecular Phosphorus Precursor onto Oxide-Passivated Silicon Surfaces

Monolayer Doping of Silicon through Grafting a Tailored Molecular Phosphorus Precursor onto Oxide-Passivated Silicon Surfaces

Low Temperature Wet Conformal Nickel Silicide Deposition for Transistor Technology through an Organometallic Approach