Dépôt chimique en phase vapeurvignette|Schéma d'un CVD Le dépôt chimique en phase vapeur (ou CVD pour l'anglais chemical vapor deposition) est une méthode de dépôt sous vide de films minces, à partir de précurseurs gazeux. La CVD est un procédé utilisé pour produire des matériaux solides de haute performance, et de grande pureté. Ce procédé est souvent utilisé dans l'industrie du semi-conducteur pour produire des couches minces. Dans un procédé CVD typique, le substrat est exposé à un ou plusieurs précurseurs en phase gazeuse, qui réagissent et/ou se décomposent à la surface du substrat pour générer le dépôt désiré.
Ballast (électricité)Le terme de ballast désigne n'importe quel composant électrique utilisé pour limiter le courant dans un circuit électrique. Un ballast peut prendre la forme d'une simple résistance série comme pour les tubes fluorescents de faible puissance. Pour les applications de plus forte puissance, l'énergie dissipée dans la résistance ballast serait trop importante. On utilise alors des condensateurs, des bobines, ou les deux à la fois.
Fan-outEn électronique et en complexité, le fan-out d'un fil électrique, ou d'une porte logique, ou d'un port de sortie d'un bloc, est le nombre maximal de blocs qui peuvent être connectés à la sortie de cet élément. Plus spécifiquement, dans l'étude théorique des circuits booléens, on parlera en français « d'arité sortante » ou de « sortance ». Si le fan-out d'une porte logique ou d'une bascule est trop petit, elle ne peut plus fournir suffisamment de courant pour transmettre son état aux entrées des blocs qui lui sont connectés : il est possible de la dupliquer afin de diviser par deux cette valeur, ou d'ajouter un arbre d'inverseurs pour répéter sa sortie.
