Dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasmathumb|Équipement de PECVD. Le dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma (ou PECVD, pour Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition en anglais) est un procédé utilisé pour déposer des couches minces sur un substrat à partir d'un état gazeux (vapeur). Des réactions chimiques se déroulent au cours du processus après la formation d'un plasma à partir des gaz du réacteur. Le plasma est généralement créé à partir de ce gaz par une décharge électrique pouvant être générée à partir de sources radio-fréquences (13,56 MHz), micro-ondes (2,45 GHz) ou par une décharge électrique continue entre deux électrodes.
Expérience de AschL'expérience de Asch, publiée en 1951, est une expérience du psychologue Solomon Asch qui démontre le pouvoir du conformisme sur les décisions d'un individu au sein d'un groupe. Asch invita un groupe d'étudiants (entre 7 et 9) de à participer à un prétendu test de vision auquel avaient auparavant été soumis des sujets témoins qui n'eurent aucun mal à donner toujours la bonne réponse. Tous les participants étaient complices de l'expérimentateur, sauf un.
Ship canalA ship canal is a canal especially intended to accommodate ships used on the oceans, seas, or lakes to which it is connected.sfn|Johnson's|1883|p=1660 Ship canals can be distinguished from barge canals, which are intended to carry barges and other vessels specifically designed for river and/or canal navigation. Ships capable of navigating large bodies of open water typically have more draft, and are higher above the water than vessels for inland navigation.
Subsidence (géologie)thumb|right|Route endommagée par un affaissement de subsidence, près de Castleton, Derbyshire. La subsidence (du latin subsidere, « s'enfoncer ») est un lent . Elle offre ainsi un espace pour l'enfoncement progressif, régulier ou saccadé, pendant une assez longue période, d'un bassin sédimentaire dans lequel les dépôts sédimentaires peuvent acquérir une épaisseur considérable. vignette|Subsidence par surcharge.
