Gilet pare-ballesvignette|upright|alt=Agent de police en uniforme portant un gilet pare-balles réglementaire et un fusil d'assaut, dans une rue.|right|Un policier londonien portant un gilet pare-balles. vignette|alt=Équipements de combat saisis par la police, exposés sur une table.|right|Gilets pare-balles (en haut) et armes, lors d'une saisie. Le gilet pare-balles est un équipement principalement destiné à protéger le thorax, l'abdomen et le dos contre le tir d'armes à feu en empêchant la pénétration de la balle et en absorbant son impact.
Supercondensateurvignette|Supercondensateur Un supercondensateur est un condensateur de technique particulière permettant d'obtenir une densité de puissance et une densité d'énergie intermédiaires entre les batteries et les condensateurs électrolytiques classiques. Composés de plusieurs cellules montées en série-parallèle, ils permettent une tension et un courant de sortie élevés (densité de puissance de l'ordre de plusieurs kW/kg) et stockent une quantité d'énergie intermédiaire entre les deux modes de stockage cités ci-dessus (densité d'énergie de l'ordre de quelque Wh/kg), et peuvent la restituer plus rapidement qu'une batterie.
Prohibition des droguesLa prohibition des drogues est un principe d'interdiction sur la production, le commerce et l'usage de psychotropes qui peut être édictée par la loi, la morale ou la religion. La libéralisation des drogues est la politique opposée à la prohibition. Au niveau international, cette politique a été mise en place par diverses conventions de l'ONU (Convention unique sur les stupéfiants de 1961, Convention sur les substances psychotropes de 1971 et Convention contre le trafic illicite de stupéfiants et de substances psychotropes de 1988).
Dépôt chimique en phase vapeurvignette|Schéma d'un CVD Le dépôt chimique en phase vapeur (ou CVD pour l'anglais chemical vapor deposition) est une méthode de dépôt sous vide de films minces, à partir de précurseurs gazeux. La CVD est un procédé utilisé pour produire des matériaux solides de haute performance, et de grande pureté. Ce procédé est souvent utilisé dans l'industrie du semi-conducteur pour produire des couches minces. Dans un procédé CVD typique, le substrat est exposé à un ou plusieurs précurseurs en phase gazeuse, qui réagissent et/ou se décomposent à la surface du substrat pour générer le dépôt désiré.
Atomic layer depositionL’atomic layer deposition (ALD) est un procédé de dépôt de couches minces atomiques. Le principe consiste à exposer une surface successivement à différents précurseurs chimiques afin d'obtenir des couches ultra-minces. Il est utilisé dans l'industrie des semi-conducteurs. L'énorme avantage de l'ALD est de pouvoir faire une monocouche sur une surface présentant un très fort rapport d'aspect (des creux et des bosses). Notamment car la réaction de CVD se déroule directement à la surface, sur une monocouche de gaz précurseurs adsorbés.
