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Explore la conception et la fabrication d'un micro-actionneur bi-morphe et sa caractérisation thermomécanique à travers des applications de courant continu et alternatif.
Explore diverses techniques de gravure sèche pour le silicium et l'équipement utilisé dans le processus, y compris les sources de plasma RF et les graveurs en phase vapeur HF.
Explore la technologie de traitement de la lumière numérique (DLP), en la comparant à la stéréolithographie (SLA) et à Polyjet, en discutant de ses processus, de ses matériaux et de ses applications.
Explore la résolution et la vitesse de fabrication dans la fabrication additive, la stéréolithographie, la micro-stéréolithographie, les comparaisons de coûts, la personnalisation des articles et les structures de support.
