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Couvre les modes de fonctionnement d'une jonction MOS sur un substrat de type n, en se concentrant sur les effets de potentiel de surface et de flexion de bande.
Couvre l'intégration de processus dans la fabrication de semi-conducteurs, y compris le processus à double puits, les méthodes d'isolation, l'ajustement de la tension de seuil et la formation de siliciure.
Explore la physique des semi-conducteurs sous des champs électriques élevés, en discutant du transport des porteurs, des processus de recombinaison et de l'impact de l'injection.
