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Cette séance de cours couvre le processus d'implantation ionique dans le silicium, essentiel pour la création de transistors et de diodes. Les sujets abordés comprennent la lithographie, les étapes d'implantation ionique, le recuit, les défis et les solutions telles que le recuit thermique rapide. Il traite également du processus d'implantation, des lentilles magnétiques et de l'importance de la température et du temps dans le recuit. Après l'implantation, des astuces pour l'emplacement des motifs sont partagées, ainsi que des détails sur les niveaux de dopage et le processus SmartCut pour les plaquettes SOI.