Croissance du film: modes de croissance et structure cristalline
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Explore les techniques d'enlèvement et de dépôt de couches minces dans la technologie CMOS, couvrant la gravure humide, la gravure sèche, le polissage mécanique chimique et les méthodes de dépôt de couches minces.
Explore les principes et les applications du dépôt de vapeur physique (PVD) dans les technologies de microfabrication, couvrant des sujets tels que la création de microstructures métalliques et l'efficacité de pulvérisation.
Explore les principes et les applications de la technologie Focused Ion Beam (FIB), y compris les interactions ion-solide, l'imagerie, le broyage et le dépôt.
Couvre la gravure humide des couches sacrificielles en micro et nanofabrication, y compris les défis et les solutions pour la déformation de la microstructure et le diagnostic de stress.
Explore les méthodes de croissance des couches minces organiques, la nucléation, la croissance des grains, l'alignement des cristaux et le recuit des vapeurs de solvant.
Explore le traitement de films et de revêtements minces à l'aide de techniques sol-gel, de dépôts en phase vapeur, de techniques de pulvérisation et de méthodes de pulvérisation thermique.
Explore la fabrication de dépôts de faisceaux d'électrons et les procédés de dépôt direct de métaux, en soulignant leur équipement, leurs avantages et leurs limites.
