Sputtering dans CMi

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Description

Cette séance de cours explique le fonctionnement d'un outil de pulvérisation en grappe avec quatre chambres de dépôt, permettant le transfert de plaquettes sans casser le vide. Il détaille le processus de changement des cibles de pulvérisation et les différences entre le magnétron RF et la pulvérisation magnétron DC.

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Source officielle

https://mediaspace.epfl.ch/media/0_8tr9l98l

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