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Explore les techniques de microfabrication pour les nanotips et les capteurs, les modes de contact en AFM, les forces capillaires et les capteurs et actionneurs intégrés.
Explore la création de photomasques, les méthodes d'exposition, l'écriture laser directe, la résolution et résiste au développement dans les applications MEMS.
Célèbre le parcours exceptionnel de Philippe Renaud dans les domaines de la micro-ingénierie, de l’innovation et de l’éducation, en mettant en valeur son impact sur la recherche, l’éducation et les collaborations interdisciplinaires.
Explore la génération de plasma, la gaine ionique, la tension de polarisation CC et la conception d'électrodes dans les processus de micro et de nanofabrication.
Explore divers processus de dépôt chimique en phase vapeur, notamment APCVD, SACVD, LPCVD, UHV / CVD, PECVD et MOCVD, en se concentrant sur la croissance du film et les effets plasmatiques.
Explore diverses techniques de gravure sèche pour le silicium et l'équipement utilisé dans le processus, y compris les sources de plasma RF et les graveurs en phase vapeur HF.
Explore les corrections de l'effet de proximité dans la lithographie par faisceau d'électrons pour les petites et grandes caractéristiques, en soulignant l'importance de la modélisation de la fonction d'étalement du point de faisceau.
