Dépôt de vapeur chimique: Films minces et oxydation

Cette séance de cours couvre les principes du dépôt chimique de vapeur (CVD) axé sur la couche atomique CVD (ALCVD) et son application dans la formation de films conformaux spécifiés atomiquement. Il traite également de l'importance du SiO2 dans la technologie du silicium, des mécanismes d'oxydation thermique et de la formation du SiO2 par diffusion d'oxygène dans une galette de silicium. De plus, une étude de cas sur un micro-actuateur thermomécanique est présentée, soulignant le processus d'application de la tension sur un fil Cr, le chauffage Joule, l'expansion thermique et les préoccupations de fiabilité. La séance de cours se termine par un résumé des sujets discutés, mettant l'accent sur l'utilisation de l'ALCVD pour les couches minces continues, l'oxydation thermique et le processus LOCOS en microélectronique.