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Krishnaparvathy Puthankovilakam

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Publications associées (7)

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Unified rule based correction for corners in proximity lithography mask using high resolution features

Hans Peter Herzig, Toralf Scharf, Krishnaparvathy Puthankovilakam

Printing industry and printing techniques are increasing its market value by new methodologies. The resolution and accuracy of the pattern transfer is always a challenge for the industry, especially for the proximity printing industries which use mask alig ...

Elsevier2017

Limitations of Proximity Lithography Printing : Simulations, Experiments, and Applications

Krishnaparvathy Puthankovilakam

Photolithography is one of the earliest technologies used to transfer patterns to a substrate. It is also known as optical lithography since it uses light to transfer the pattern. The main exposure techniques exist in the industry are projection printing, ...

EPFL2017

Light fields behind microstructures: study of the Babinet-principle in the Fresnel regime

Hans Peter Herzig, Toralf Scharf, Myun Sik Kim, Krishnaparvathy Puthankovilakam

The Babinet’s principle is a general theorem that holds for electromagnetic waves and is often applied to diffraction of light. Diffraction pattern of a body and that of the complement body are compared and the sum of both radiation patterns must be the sa ...

Spie-Int Soc Optical Engineering2017