Cette page est générée automatiquement et peut contenir des informations qui ne sont pas correctes, complètes, à jour ou pertinentes par rapport à votre recherche. Il en va de même pour toutes les autres pages de ce site. Veillez à vérifier les informations auprès des sources officielles de l'EPFL.
vignette|Schéma d'un CVD Le dépôt chimique en phase vapeur (ou CVD pour l'anglais chemical vapor deposition) est une méthode de dépôt sous vide de films minces, à partir de précurseurs gazeux. La CVD est un procédé utilisé pour produire des matériaux solides de haute performance, et de grande pureté. Ce procédé est souvent utilisé dans l'industrie du semi-conducteur pour produire des couches minces. Dans un procédé CVD typique, le substrat est exposé à un ou plusieurs précurseurs en phase gazeuse, qui réagissent et/ou se décomposent à la surface du substrat pour générer le dépôt désiré.
Une monocouche est un assemblage compact dit bidimensionnel constitué d'atomes, de molécules ou de cellules. Dans certains cas, on parle de monocouche auto-assemblée ou SAM, de l'anglais self-assembled monolayer. Une monocouche (de Langmuir) ou monocouche insoluble est un assemblage d'un composé organique insoluble d'une seule molécule d'épaisseur étalée à la surface d'une solution aqueuse.
A two-dimensional semiconductor (also known as 2D semiconductor) is a type of natural semiconductor with thicknesses on the atomic scale. Geim and Novoselov et al. initiated the field in 2004 when they reported a new semiconducting material graphene, a flat monolayer of carbon atoms arranged in a 2D honeycomb lattice. A 2D monolayer semiconductor is significant because it exhibits stronger piezoelectric coupling than traditionally employed bulk forms. This coupling could enable applications.
Two-dimensional (2D) materials have received tremendous research attention recently, as they possess peculiar physical properties in their monolayer and few-layer forms, which further lead to novel ap