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Publications associées (5)

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Unités associées (1)

Laboratoire de microsystèmes 1

EPFL
STI
IEM
LMIS1

Combination of Thermal Scanning Probe Lithography and Directed Self-Assembly of Block Copolymers

Jürgen Brugger, Arnaud Bertsch, Berke Erbas

The fabrication of semiconductor quantum devices necessitates sub-20 nm features and high-density patterning, often exceeding the capabilities of current state-of-the-art lithographic techniques. To address this challenge, in this work, the combination of ...

SPIE2025

Beyond the Mask: Advancing Fabrication and Immersive Learning

Jürgen Brugger, Arnaud Bertsch, Jongeon Park, Berke Erbas, Chenxiang Zhang

This paper presents advances in micro and nanofabrication techniques beyond conventional lithographic masks with examples of inkj et printing, nanostencil lithography, molecular-level doping methods, and thermal scanning probe lithography. These methods en ...

IEEE2025

Grayscale nanopatterning for strain-engineered 2D materials

Semiconductor innovation is shifting from traditional dimensional scaling toward novel architectures and materials as lithography nears its physical limits. FinFETs and GAAFETs have marked key milestones, with scaling now progressing through 3D stacking. M ...

EPFL2025