Publication

UV-curable nanoimprint resin with enhanced anti-sticking property

Joo Yeon Kim
2008
Article

Résumé

This paper reports on a newly developed anti-sticking resin obtained by mixing a fluorine-containing monomer (F- monomer) for UV nanoimprinting lithography (UV-NIL) to reduce the contact adhesion force during the demolding process. The new resin system shows an enhanced reliability and resolution of pattern transfer with no treatment on the surface of the quartz stamp.We fabricated various nanopatterns with F-monomer resins of various concentrations in the low pressure UV-NIL. The number of process steps of a release layer treatment for UV-NIL was reduced by using F-monomer with anti-sticking property.

Source officielle

https://infoscience.epfl.ch/record/128517?ln=fr

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Proximité ontologique

Chimie

Chimie organique: Chimie macromoléculaire

Concepts associés (18)

Les polyépoxydes, encore appelés polymères époxyde ou communément « époxy », sont des résines fabriquées par polymérisation de monomères époxyde avec un durcisseur (agent de réticulation) qui peut être à base d'anhydride d'acide, de phénol ou le plus souvent d'amine (polyamine, aminoamide) : ce sont des polymères tridimensionnels. Le représentant le plus connu des polymères époxyde est la colle Araldite. Leur première synthèse date des années 1940.

Nanoimprint lithography (NIL) is a method of fabricating nanometer scale patterns. It is a simple nanolithography process with low cost, high throughput and high resolution. It creates patterns by mechanical deformation of imprint resist and subsequent processes. The imprint resist is typically a monomer or polymer formulation that is cured by heat or UV light during the imprinting. Adhesion between the resist and the template is controlled to allow proper release.

Les phénoplastes ou « résines phénol-formaldéhyde » (sigle PF) sont issus du formaldéhyde et du phénol. Ils font partie de la famille des polymères thermodurcissables. Le phénol étant un monomère trifonctionnel (la molécule monomère possède trois sites actifs), il se forme finalement un réseau tridimensionnel. Un exemple bien connu est celui de la « bakélite » (marque déposée), le plus ancien matériau polymère synthétique industriel. La synthèse des polymères formo-phénoliques, qui utilise le formaldéhyde comme comonomère, s'apparente à celle des aminoplastes.

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