Couche minceUne couche mince () est un revêtement dont l’épaisseur peut varier de quelques couches atomiques à une dizaine de micromètres. Ces revêtements modifient les propriétés du substrat sur lesquels ils sont déposés. Ils sont principalement utilisés : dans la fabrication de composants électroniques telles des cellules photovoltaïques en raison de leurs propriétés isolantes ou conductrices ; pour la protection d'objets afin d'améliorer les propriétés mécaniques, de résistance à l’usure, à la corrosion ou en servant de barrière thermique.
Gravure au plasmaLa gravure au plasma est une technique de gravure sèche utilisée en microfabrication (microélectronique). La gravure au plasma consiste à faire subir à un échantillon (wafer) un bombardement de gaz ionisé (plasma) afin d'en retirer une ou plusieurs couches de matériaux. Cette méthode de gravure est purement physique (par opposition aux gravures chimiques), au sens où il n'y a pas de réaction chimique entre l'échantillon et le plasma, mais que ce dernier agit uniquement par effet mécanique. Physique des plas
Film (cinéma)vignette|Alexandre Dovjenko en train de réaliser un film. Un film est une œuvre du cinéma ou de l'audiovisuel, qu'elle soit produite ou reproduite sur support argentique ou sur tout autre support existant (vidéo, numérique). Ce terme (qui vient de l'anglais film qui signifie « couche », « voile ») est employé par métonymie, en référence à la pellicule chargée dans un magasin de caméra argentique, destinée aux prises de vues cinématographiques.
Silicium amorpheLe silicium amorphe, généralement abrégé a-Si, est la variété allotropique non cristallisée du silicium, c’est-à-dire dans lequel les atomes sont désordonnés et ne sont pas rangés de façon régulière définissant une structure cristalline. Le silicium amorphe peut être déposé en couches minces à basse température sur un grand nombre de substrats, permettant d'envisager une grande variété d'applications microélectroniques. Ce matériau semi-conducteur est couramment utilisé pour réaliser certains panneaux solaires photovoltaïques.
ProtocrystallineA protocrystalline phase is a distinct phase occurring during crystal growth, which evolves into a microcrystalline form. The term is typically associated with silicon films in optical applications such as solar cells. Amorphous silicon (a-Si) is a popular solar cell material owing to its low cost and ease of production. Owing to disordered structure (Urbach tail), its absorption extends to the energies below the band gap resulting in a wide-range spectral response; however, it has a relatively low solar cell efficiency.
Antenne dipolaireL'antenne dipolaire, élaborée par Heinrich Rudolph Hertz vers 1886, est une antenne constituée de deux brins métalliques, alimentée en son milieu et destinée à transmettre ou recevoir de l'énergie électromagnétique. Ce type d'antenne est le plus simple à étudier d'un point de vue analytique. 220px|thumb|Antenne dipolaire. thumb|300px|Une antenne dipolaire recevant une onde radio. thumb|Schéma géométrique d'un dipôle élémentaire.
Cinéma indépendantvignette|Affiche du film indépendant «Last Love» qui a gagné plusieurs prix. « Cinéma indépendant » définit l'ensemble du cinéma produit en dehors des conglomérats médiatiques et réclamant une certaine autonomie par rapport aux méthodes de production, conventions et politiques du cinéma populaire. Par extension, cette catégorie peut inclure le cinéma amateur, le cinéma expérimental, le cinéma de guérilla et, dans une certaine mesure, le cinéma de genre et certains cinémas nationaux comme Dogme95.
Atomic layer depositionL’atomic layer deposition (ALD) est un procédé de dépôt de couches minces atomiques. Le principe consiste à exposer une surface successivement à différents précurseurs chimiques afin d'obtenir des couches ultra-minces. Il est utilisé dans l'industrie des semi-conducteurs. L'énorme avantage de l'ALD est de pouvoir faire une monocouche sur une surface présentant un très fort rapport d'aspect (des creux et des bosses). Notamment car la réaction de CVD se déroule directement à la surface, sur une monocouche de gaz précurseurs adsorbés.
Antenna measurementAntenna measurement techniques refers to the testing of antennas to ensure that the antenna meets specifications or simply to characterize it. Typical parameters of antennas are gain, bandwidth, radiation pattern, beamwidth, polarization, and impedance. The antenna pattern is the response of the antenna to a plane wave incident from a given direction or the relative power density of the wave transmitted by the antenna in a given direction. For a reciprocal antenna, these two patterns are identical.
Ionvignette| Tableau périodique avec quelques atomes en lien avec leur forme ionique la plus répandue. La charge des ions indiqués (sauf H) a comme logique d'avoir la même structure électronique que le gaz noble (cadre rouge) le plus proche. Un ion est un atome ou un groupe d'atomes portant une charge électrique, parce que son nombre d'électrons est différent de son nombre de protons. On distingue deux grandes catégories d'ions : les cations, chargés positivement, et les anions, chargés négativement.
