Publication

PZT thin films for micro sensors and actuators

Paul Muralt
1996
Article

Résumé

The paper reviews different aspects of deposition, integration, and device fabrication of PbZrxTi1-xO3 (PZT) films for application in micromechanical systems. The deposition of such films and the principal processes for their integration onto silicon substrates are now fairly well mastered. Current efforts concentrate on tailoring the film properties for the various applications, and on optimization of the device designs and patterning processes. Current work on an ultrasonic micromotor and a pyroelectric IR detector is presented and discussed.

Source officielle

https://infoscience.epfl.ch/record/88855?ln=fr

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PZT

Les PZT, ou titano-zirconates de plomb, sont des composés chimiques de formule , où . Il s'agit de céramiques de structure pérovskite présentant plusieurs propriétés intéressantes : ferroélectricité, c'est-à-dire qu'elles ont une polarisation électrique spontanée, qui peut être inversée par l'application d'un champ électrique ; piézoélectricité, c'est-à-dire qu'elles peuvent changer de forme si on leur applique un champ électrique, ou qu'elles peuvent générer une tension électrique entre deux faces lorsqu'on leur applique une déformation — propriété particulièrement utile pour les capteurs, les transducteurs, les actionneurs au sens large ; pyroélectricité, c'est-à-dire qu'elles peuvent générer une tension électrique lorsqu'on modifie leur température, d'où des applications dans les sondes de température.

Dépôt sous vide

vignette|Chambre à vide de l'Observatoire du Mont Mégantic utilisée pour la re-aluminisation des miroirs de télescopes. Le dépôt sous vide est une technique de fabrication de couche mince : on cherche à déposer une couche de métal (la plupart du temps) sur une lame de substrat solide (verre ou silicium par exemple). On y utilise le principe physique qui veut que, à très basse pression, les molécules (généralement monoatomiques) de vapeur d'un métal se déplacent avec très peu de risque de collision avec d'autres molécules : le gaz métallique se trouve projeté sur le substrat sans être freiné par les phénomènes de diffusion, et sans risque d'oxydation.

Dépôt physique par phase vapeur

vignette|Montage expérimental d’une évaporation par dépôt chimique vapeur Le dépôt physique en phase vapeur (ou PVD pour l'anglais physical vapor deposition) est un ensemble de méthodes de dépôt sous vide de films minces : Évaporation directe : Évaporation sous vide (ou évaporation) Évaporation par faisceau d'électron en phase vapeur (angl. electron beam evaporation) Pulvérisation cathodique (sputtering) : les particules de métal sont séparées de leur substrat par bombardement ionique.

PZT thin films for micro sensors and actuators

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Dynamic control of high-voltage actuator arrays by light-pattern projection on photoconductive switches

Non-destructive piezoelectric characterisation of Sc doped aluminium nitride thin films at wafer level

Microstructure and ferroelectricity of BaTiO3 thin films on Si for integrated photonics

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