PhotolithographieLa photolithographie est l'ensemble des opérations permettant de transférer une image (généralement présente sur un masque) vers un substrat. Cette technique est très utilisée dans l'industrie du semi-conducteur. Les motifs de l'image ainsi transférée deviendront par la suite les différentes zones des composants électroniques (exemple : contact, drain...) ou les jonctions entre ces composants.
Lithographie extrême ultravioletvignette|La technologie EUV. vignette|Outil de lithographie EUV. La lithographie extrême ultraviolet ou lithographie EUV est un procédé de photolithographie assez semblable aux procédés de lithographie classiques actuels. Il utilise un rayonnement ultraviolet (UV) d'une longueur d'onde de l'ordre de dix à quinze nanomètres (le rayonnement EUV avoisine donc la gamme des rayons X-mous), en remplaçant les objectifs (ou masques dits « en transmission ») par une série de miroirs de précision (exemple des masques dits « en réflexion »).
Array slicingIn computer programming, array slicing is an operation that extracts a subset of elements from an array and packages them as another array, possibly in a different dimension from the original. Common examples of array slicing are extracting a substring from a string of characters, the "ell" in "hello", extracting a row or column from a two-dimensional array, or extracting a vector from a matrix. Depending on the programming language, an array slice can be made out of non-consecutive elements.
Diaphragme (optique)Un diaphragme est un élément mécanique interposé sur le trajet lumineux dans un instrument optique, il conditionne la quantité de lumière transmise ainsi que l'ouverture du système. On distingue les diaphragmes de champ qui limitent la portion de l'objet qui sera imagée par le système optique des diaphragmes d'ouverture qui limitent l'angle des rayons traversant le système.
