Publication

100 nm-scale Aluminum Nanowires by Stencil Lithography: Fabrication and Characterization

Résumé

We present the fabrication process and electrical characterization of sub-100 nm scale Al nanowires (NWs) fabricated by stencil lithography (SL). We use a stencil with sub- 100 nm wide nanoslits patterned by focused ion beam (FIB) milling. The stencil is aligned and clamped onto a substrate containing predefined electrical contacts. Then a 60 nm-thick layer of Aluminum (Al) is deposited through the stencil producing NWs with lengths of ~1, 2 and 5 μm and widths down to 65 nm. The NWs show an ohmic behavior with values varying from 30 Ω up to 300 Ω, depending on the dimensions of the structures. We have extracted a resistivity for the Al NWs of ~10 x 10-8 Ωm. We also show that stencils can be cleaned and reused, proving that SL is a cost-efficient and scalable manufacturing method for the direct fabrication of metallic NWs on a full wafer scale.

À propos de ce résultat
Cette page est générée automatiquement et peut contenir des informations qui ne sont pas correctes, complètes, à jour ou pertinentes par rapport à votre recherche. Il en va de même pour toutes les autres pages de ce site. Veillez à vérifier les informations auprès des sources officielles de l'EPFL.
Concepts associés (28)
Fabrication des dispositifs à semi-conducteurs
thumb|upright=1.5|Évolution de la finesse de gravure des processeurs entre 1970 et 2017 La fabrication des dispositifs à semi-conducteur englobe les différentes opérations permettant l'élaboration de composants électroniques basés sur des matériaux semi-conducteurs. Entrent dans cette catégorie de composants à semi-conducteur, les composants discrets qui n'ont qu'une seule fonction comme les diodes et les transistors, et les circuits intégrés plus complexes, intégrant plusieurs composants, jusqu'à des milliards, dans le même boîtier.
65 nm
thumb|Processeur XCPU Falcon gravé en 65 nm désigne le procédé de fabrication des semi-conducteurs qui succède au procédé de fabrication par CMOS. Les premiers processeurs possédant cette technologie sont apparus sur le marché en 2006. Les processeurs Xenon de la génération "Falcon" sont gravés en technologie 65 nm, ainsi que les POWER6 et les Itanium 4 cores sortis en 2008. C'est également avec cette finesse qu'étaient gravés les CPU et GPU de certains modèles de PlayStation 3.
Dépôt de fil fondu
Le dépôt de fil fondu (DFF) ou Fused deposition modeling (FDM) ou encore Fused Filament Fabrication (FFF) est une technologie d'impression 3D. On appelle aussi ce procédé impression 3D par extrusion de matériau Material Extrusion 3D printing (MEX). Cette technologie consiste à déposer de la matière à l'état liquide couche par couche. La technologie utilise le plus souvent un filament de matière polymère qui est fondu puis extrudé pour construire une pièce couche par couche.
Afficher plus
Publications associées (41)

Scalable fabrication of functional nanostructures on stretchable substrates by capillary-assisted particle assembly and adhesion lithography

Henry Shao-Chi Yu

The fabrication of metallic nanostructures on stretchable substrates enables specific applications that exploit the combination of the nano-scale phenomena and the mechanical tunability of the physical dimensions of the nanostructures. Due to the large dif ...
EPFL2022

Fabrication of Single-Crystalline InSb-on-Insulator by Rapid Melt Growth

Anna Fontcuberta i Morral, Nicholas Paul Morgan, Heera Menon

InSb has the smallest bandgap and highest electron mobility among III-V semiconductors and is widely used for photodetectors and high-frequency electronic applications. Integration of InSb directly on Si would drastically reduce the fabrication cost and en ...
2021

Doping challenges and pathways to industrial scalability of III–V nanowire arrays

Anna Fontcuberta i Morral, Lucas Güniat, Valerio Piazza, Wonjong Kim

Semiconductor nanowires (NWs) have been investigated for decades, but their application into commercial products is still difficult to achieve, with triggering causes related to the fabrication cost and structure complexity. Dopant control at the nanoscale ...
2021
Afficher plus
MOOCs associés (3)
Micro and Nanofabrication (MEMS)
Learn the fundamentals of microfabrication and nanofabrication by using the most effective techniques in a cleanroom environment.
Microstructure Fabrication Technologies I
Learn the fundamentals of microfabrication and nanofabrication by using the most effective techniques in a cleanroom environment.
Micro and Nanofabrication (MEMS)
Learn the fundamentals of microfabrication and nanofabrication by using the most effective techniques in a cleanroom environment.

Graph Chatbot

Chattez avec Graph Search

Posez n’importe quelle question sur les cours, conférences, exercices, recherches, actualités, etc. de l’EPFL ou essayez les exemples de questions ci-dessous.

AVERTISSEMENT : Le chatbot Graph n'est pas programmé pour fournir des réponses explicites ou catégoriques à vos questions. Il transforme plutôt vos questions en demandes API qui sont distribuées aux différents services informatiques officiellement administrés par l'EPFL. Son but est uniquement de collecter et de recommander des références pertinentes à des contenus que vous pouvez explorer pour vous aider à répondre à vos questions.