Explore les phénomènes de diffraction, les interférences et les limitations de résolution dans les processus d'imagerie dus aux interférences des ondes.
Explore la lithographie par faisceau d'électrons, couvrant la luminosité du canon à électrons, les aberrations de la lentille, le diamètre du faisceau et la mise en œuvre de l'outil.
Discute des méthodes de caractérisation des formes et des tailles de particules, en se concentrant sur les défis de mesure et l'importance des protocoles standardisés.
