Silicon nanowires, also referred to as SiNWs, are a type of semiconductor nanowire most often formed from a silicon precursor by etching of a solid or through catalyzed growth from a vapor or liquid phase. Such nanowires have promising applications in lithium ion batteries, thermoelectrics and sensors. Initial synthesis of SiNWs is often accompanied by thermal oxidation steps to yield structures of accurately tailored size and morphology. SiNWs have unique properties that are not seen in bulk (three-dimensional) silicon materials. These properties arise from an unusual quasi one-dimensional electronic structure and are the subject of research across numerous disciplines and applications. The reason that SiNWs are considered one of the most important one-dimensional materials is they could have a function as building blocks for nanoscale electronics assembled without the need for complex and costly fabrication facilities. SiNWs are frequently studied towards applications including photovoltaics, nanowire batteries, thermoelectrics and non-volatile memory. Owing to their unique physical and chemical properties, silicon nanowires are a promising candidate for a wide range of applications that draw on their unique physico-chemical characteristics, which differ from those of bulk silicon material. SiNWs exhibit charge trapping behavior which renders such systems of value in applications necessitating electron hole separation such as photovoltaics, and photocatalysts. Recent experiment on nanowire solar cells has led to a remarkable improvement of the power conversion efficiency of SiNW solar cells from 17% in the last few years. Charge trapping behaviour and tuneable surface governed transport properties of SiNWs render this category of nanostructures of interest towards use as metal insulator semiconductors and field effect transistors, with further applications as nanoelectronic storage devices, in flash memory, logic devices as well as chemical and biological sensors.

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Concepts associés (2)
Nanofil
Un nanofil est une nanostructure, dont le diamètre est exprimé en nanomètre, donc en principe de 1 à 999 nanomètres. Pour plus de simplicité, on tolère un certain débordement dans ces dimensions. Alternativement, les nanofils peuvent être définis comme des structures qui ont une épaisseur ou un diamètre définis, mais d'une longueur quelconque. À ces échelles les effets quantiques sont importants - d'où l'utilisation du terme de « fils quantiques ».
Dépôt chimique en phase vapeur
vignette|Schéma d'un CVD Le dépôt chimique en phase vapeur (ou CVD pour l'anglais chemical vapor deposition) est une méthode de dépôt sous vide de films minces, à partir de précurseurs gazeux. La CVD est un procédé utilisé pour produire des matériaux solides de haute performance, et de grande pureté. Ce procédé est souvent utilisé dans l'industrie du semi-conducteur pour produire des couches minces. Dans un procédé CVD typique, le substrat est exposé à un ou plusieurs précurseurs en phase gazeuse, qui réagissent et/ou se décomposent à la surface du substrat pour générer le dépôt désiré.

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