Cette séance de cours couvre l'introduction générale aux plasmas industriels de base et à la chimie du plasma, expliquant comment la chimie du plasma à haute température peut être appliquée aux substrats à basse température. Il décrit également la formation d'un plasma, ses applications dans la conception de satellites, la physique de la gaine de plasma, et son utilisation dans la gravure plasma et la fabrication macro-électronique, avec un accent sur la micro-électronique.