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Cette séance de cours couvre les fondamentaux du traitement des films minces, en mettant l'accent sur les techniques de dépôt, les modes de croissance et les avantages des films minces sur les matériaux en vrac. Il explore diverses méthodes de dépôt de couches minces telles que le dépôt de vapeurs chimiques (CVD) et le dépôt de couches atomiques (ALD), mettant en évidence leurs avantages et leurs applications dans différentes industries. La séance de cours se penche également sur le rôle du plasma dans le processus de dépôt, en discutant des interactions entre le plasma et les films en croissance. En outre, il aborde les défis et les progrès dans la réalisation de films minces de haute qualité grâce à des techniques comme le PE-CVD et le sputtering.