Séance de cours
Cette séance de cours couvre le processus de dépôt de vapeur chimique amélioré par le plasma (PE-CVD) pour le traitement des films minces, en mettant l'accent sur les réactions dans le plasma, les surfaces flottantes, la conception du réacteur, la croissance des films, la chimie de surface et le contrôle de la structure des films. Il traite également des interactions entre le plasma et les films en croissance, de l'objectif d'obtenir des matériaux de haute qualité, des défis en PE-CVD, et d'autres techniques comme le dépôt de vapeur physique (PVD) et la pulvérisation. La séance de cours souligne l'importance de comprendre la formation plasmatique, les principes PE-CVD, les formations de gaine et l'impact des paramètres de dépôt sur les propriétés du film.