Dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasmathumb|Équipement de PECVD. Le dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma (ou PECVD, pour Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition en anglais) est un procédé utilisé pour déposer des couches minces sur un substrat à partir d'un état gazeux (vapeur). Des réactions chimiques se déroulent au cours du processus après la formation d'un plasma à partir des gaz du réacteur. Le plasma est généralement créé à partir de ce gaz par une décharge électrique pouvant être générée à partir de sources radio-fréquences (13,56 MHz), micro-ondes (2,45 GHz) ou par une décharge électrique continue entre deux électrodes.
Stratégies de déviation des astéroïdesLes stratégies de déviation des astéroïdes sont les méthodes qui pourraient potentiellement être utilisées pour détourner un astéroïde ou une comète qui serait sur une trajectoire de collision avec la Terre (objets géocroiseurs) et dont la taille pourrait produire des dégâts jugés trop importants. Des géocroiseurs percutent à intervalle régulier notre planète. Si les plus petits de ces objets n'occasionnent aucun dégât, ceux dont la taille dépasse quelques dizaines de mètres peuvent faire de nombreuses victimes mais leur fréquence est très faible.
