Flow process chartThe flow process chart is a graphical and symbolic representation of the activities performed on the work piece during the operation in industrial engineering. The first structured method for documenting process flow, e.g., in flow shop scheduling, the flow process chart, was introduced by Frank and Lillian Gilbreth to members of ASME in 1921 as the presentation "Process Charts, First Steps in Finding the One Best Way to Do Work". The Gilbreths' tools quickly found their way into industrial engineering curricula.
Interference lithographyInterference lithography (or holographic lithography) is a technique for patterning regular arrays of fine features, without the use of complex optical systems or photomasks. The basic principle is the same as in interferometry or holography. An interference pattern between two or more coherent light waves is set up and recorded in a recording layer (photoresist). This interference pattern consists of a periodic series of fringes representing intensity minima and maxima.
Control-flow diagramA control-flow diagram (CFD) is a diagram to describe the control flow of a business process, process or review. Control-flow diagrams were developed in the 1950s, and are widely used in multiple engineering disciplines. They are one of the classic business process modeling methodologies, along with flow charts, drakon-charts, data flow diagrams, functional flow block diagram, Gantt charts, PERT diagrams, and IDEF. A control-flow diagram can consist of a subdivision to show sequential steps, with if-then-else conditions, repetition, and/or case conditions.
PhotolithographieLa photolithographie est l'ensemble des opérations permettant de transférer une image (généralement présente sur un masque) vers un substrat. Cette technique est très utilisée dans l'industrie du semi-conducteur. Les motifs de l'image ainsi transférée deviendront par la suite les différentes zones des composants électroniques (exemple : contact, drain...) ou les jonctions entre ces composants.
Diagramme de fluxFlow diagram is a collective term for a diagram representing a flow or set of dynamic relationships in a system. The term flow diagram is also used as a synonym for flowchart, and sometimes as a counterpart of the flowchart. Flow diagrams are used to structure and order a complex system, or to reveal the underlying structure of the elements and their interaction. The term flow diagram is used in theory and practice in different meanings. Most commonly the flow chart and flow diagram are used in an interchangeable way in the meaning of a representation of a process.
Couche minceUne couche mince () est un revêtement dont l’épaisseur peut varier de quelques couches atomiques à une dizaine de micromètres. Ces revêtements modifient les propriétés du substrat sur lesquels ils sont déposés. Ils sont principalement utilisés : dans la fabrication de composants électroniques telles des cellules photovoltaïques en raison de leurs propriétés isolantes ou conductrices ; pour la protection d'objets afin d'améliorer les propriétés mécaniques, de résistance à l’usure, à la corrosion ou en servant de barrière thermique.
Lithographie extrême ultravioletvignette|La technologie EUV. vignette|Outil de lithographie EUV. La lithographie extrême ultraviolet ou lithographie EUV est un procédé de photolithographie assez semblable aux procédés de lithographie classiques actuels. Il utilise un rayonnement ultraviolet (UV) d'une longueur d'onde de l'ordre de dix à quinze nanomètres (le rayonnement EUV avoisine donc la gamme des rayons X-mous), en remplaçant les objectifs (ou masques dits « en transmission ») par une série de miroirs de précision (exemple des masques dits « en réflexion »).
Diagramme de flux de donnéesLe Data Flow Diagram (DFD ; en français, diagramme de flux de données) est un type de représentation graphique du flux de données à travers un système d’information. Cet outil est souvent utilisé comme étape préliminaire dans la conception d’un système afin de créer un aperçu de ce système d’information. De plus, il est également utilisé pour visualiser le traitement de données (structured design). Il montre quel type d’informations entre (input) ou sort (output) du système, d’où elles proviennent et où elles sont stockées.
Gravure au plasmaLa gravure au plasma est une technique de gravure sèche utilisée en microfabrication (microélectronique). La gravure au plasma consiste à faire subir à un échantillon (wafer) un bombardement de gaz ionisé (plasma) afin d'en retirer une ou plusieurs couches de matériaux. Cette méthode de gravure est purement physique (par opposition aux gravures chimiques), au sens où il n'y a pas de réaction chimique entre l'échantillon et le plasma, mais que ce dernier agit uniquement par effet mécanique. Physique des plas
Nanoimprint lithographyNanoimprint lithography (NIL) is a method of fabricating nanometer scale patterns. It is a simple nanolithography process with low cost, high throughput and high resolution. It creates patterns by mechanical deformation of imprint resist and subsequent processes. The imprint resist is typically a monomer or polymer formulation that is cured by heat or UV light during the imprinting. Adhesion between the resist and the template is controlled to allow proper release.
