Assessment of Pseudo-Bilayer Structures in the Heterogate Germanium Electron-Hole Bilayer Tunnel Field-Effect Transistor
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En électronique, la zone de déplétion, aussi appelée zone de charge d'espace (ZCE), ou zone désertée, correspond à la région qui apparaît dans une jonction P-N, entre la zone dopée N et la zone dopée P. Elle est appelée « zone de déplétion » ou « zone désertée » parce qu'elle est dépourvue de porteurs libres, et elle est appelée « zone de charge d'espace » parce qu'elle est constituée de deux zones chargées électriquement (contrairement au reste du semi-conducteur N et du semi-conducteur P qui sont globalement neutres).
Un transistor à effet de champ (en anglais, Field-effect transistor ou FET) est un dispositif semi-conducteur de la famille des transistors. Sa particularité est d'utiliser un champ électrique pour contrôler la forme et donc la conductivité d'un « canal » dans un matériau semiconducteur. Il concurrence le transistor bipolaire dans de nombreux domaines d'applications, tels que l'électronique numérique. Le premier brevet sur le transistor à effet de champ a été déposé en 1925 par Julius E. Lilienfeld.
The threshold voltage, commonly abbreviated as Vth or VGS(th), of a field-effect transistor (FET) is the minimum gate-to-source voltage (VGS) that is needed to create a conducting path between the source and drain terminals. It is an important scaling factor to maintain power efficiency. When referring to a junction field-effect transistor (JFET), the threshold voltage is often called pinch-off voltage instead.
Applications demanding imaging at low-light conditions at near-infrared (NIR) and short-wave infrared (SWIR) wavelengths, such as quantum information science, biophotonics, space imaging, and light detection and ranging (LiDAR), have accelerated the develo ...
The versatility of half-bridge configuration of silicon carbide (SiC) metal-oxide-semiconductor field-effect transistor (MOSFET) power module contributes to its widespread adoption, highlighting the popularity and significance of its corresponding dual gat ...
We introduce a new family of single-photon avalanche diodes (SPADs) with enhanced depletion regions in a 55-nm Bipolar-CMOS-DMOS (BCD) technology. We demonstrate how to systematically engineer doping profiles in the main junction and in deep p-well layers ...
