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Discute des interactions onde-matière, en se concentrant sur les phénomènes de diffraction et de diffusion, y compris les principes de réflexion, de réfraction et la signification des interactions rayons X.
Explore les modes d'imagerie en TEM, couvrant les interactions électron-matière, les modèles de diffraction, la formation d'images, les principes de contraste et les configurations de détecteurs.
Explore la lithographie UV et DUV, les bases de la lithographie par faisceau d'électrons, les matériaux résistants et l'optique, en comparant EBL avec d'autres méthodes de lithographie.
