Lithographie à faisceau focalisé : E-Beam Basics

Cette séance de cours couvre les principes de la lithographie UV et DUV, de la correction de proximité optique, des masques de changement de phase et de la lithographie par immersion. Il se penche ensuite sur la lithographie par faisceau d'électrons (LBE), discutant de ses concepts de base, de la génération de motifs, des matériaux résistants et de l'optique électronique. La séance de cours explore également les canons à électrons, les aberrations des lentilles et l'optique, soulignant l'importance des émetteurs de champ, des types de lentilles et de la correction des aberrations. En outre, il explique la mise en œuvre d'EBL, y compris la configuration de l'équipement, le traitement de la résistance et les capacités de résolution. La séance de cours se termine par une comparaison de l'EBL avec d'autres méthodes de lithographie et un aperçu des techniques émergentes de nanofabrication.