Electron Beam Lithography: Présentation de l'outil

Cette séance de cours couvre les principes et les applications de la lithographie par faisceau d'électrons (EBL), en se concentrant sur la vue d'ensemble de l'outil, les niveaux de vide, les sources d'électrons et les canons à électrons. Il explique comment EBL surmonte la limite de diffraction optique, permettant la fabrication de caractéristiques inférieures à 20 nm. L'instructeur discute des composants clés d'un système EBL, tels que le canon à électrons, l'optique, le générateur de motifs et l'étage interférométrique. Différents types de sources d'électrons, y compris les émetteurs thermoniques et de champ, sont explorés en détail, en soulignant leurs caractéristiques et leurs applications dans la nanofabrication.