Séance de cours

Fabrication étendue : Dépôt

Description

Cette séance de cours couvre le processus de dépôt, qui consiste à faire croître une fine couche de matériau sur un substrat en utilisant diverses techniques. Il explique l'oxydation thermique pour la culture de SiO2 sur des substrats de Si, en mettant l'accent sur les paramètres clés comme la température et le temps. La séance de cours se penche également sur le dépôt chimique en phase vapeur (CVD), détaillant comment le matériau est déposé sur un substrat par des réactions chimiques entre les gaz ou les réactifs et la surface. Différents types de techniques de CVD sont discutés, y compris PECVD, qui est une méthode moderne adaptée aux substrats qui ne peuvent pas résister à des températures élevées.

À propos de ce résultat
Cette page est générée automatiquement et peut contenir des informations qui ne sont pas correctes, complètes, à jour ou pertinentes par rapport à votre recherche. Il en va de même pour toutes les autres pages de ce site. Veillez à vérifier les informations auprès des sources officielles de l'EPFL.

Graph Chatbot

Chattez avec Graph Search

Posez n’importe quelle question sur les cours, conférences, exercices, recherches, actualités, etc. de l’EPFL ou essayez les exemples de questions ci-dessous.

AVERTISSEMENT : Le chatbot Graph n'est pas programmé pour fournir des réponses explicites ou catégoriques à vos questions. Il transforme plutôt vos questions en demandes API qui sont distribuées aux différents services informatiques officiellement administrés par l'EPFL. Son but est uniquement de collecter et de recommander des références pertinentes à des contenus que vous pouvez explorer pour vous aider à répondre à vos questions.