Cette séance de cours couvre le processus de dépôt, qui consiste à faire croître une fine couche de matériau sur un substrat en utilisant diverses techniques. Il explique l'oxydation thermique pour la culture de SiO2 sur des substrats de Si, en mettant l'accent sur les paramètres clés comme la température et le temps. La séance de cours se penche également sur le dépôt chimique en phase vapeur (CVD), détaillant comment le matériau est déposé sur un substrat par des réactions chimiques entre les gaz ou les réactifs et la surface. Différents types de techniques de CVD sont discutés, y compris PECVD, qui est une méthode moderne adaptée aux substrats qui ne peuvent pas résister à des températures élevées.