Dépôt de vapeur physique: bases et applications

Cette séance de cours couvre les principes et l'équipement des techniques de dépôt physique en phase vapeur (PVD), y compris l'évaporation thermique et la pulvérisation cathodique. Il explique les trois étapes du dépôt en couches minces, de la création de vapeur et du flux vers le substrat. La séance de cours aborde également des exemples de processus PVD et les facteurs affectant le flux de vapeur. Diverses méthodes de chauffage de l'évaporant sont explorées, telles que des chauffages résistifs et des faisceaux d'électrons. Le concept de libre parcours moyen en flux de vapeur vers le substrat est détaillé, ainsi que des exemples pratiques. Dans l'ensemble, la séance de cours donne un aperçu des processus de micro et de nanofabrication dans la technologie MEMS.