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Cette séance de cours couvre les principes et les spécifications de l'équipement des techniques de dépôt physique en phase vapeur (PVD), telles que l'évaporation thermique. Il explique le processus de PVD, y compris les effets d'ombre, la couverture des étapes et le flux d'évaporation. Des exemples spécifiques tels que LIFT-OFF et STENCIL Lithographie sont discutés, soulignant l'importance de la structuration du photorésist et de l'alignement du pochoir. La séance de cours détaille également la configuration d'un système d'évaporation, en mentionnant des équipements tels que Leybold Optics LAB 600H et les matériaux pouvant être déposés. En résumé, la PVD est décrite comme une méthode simple, rapide et rentable pour produire des films de haute pureté, bien qu’elle ait des limites dans la couverture, l’uniformité et l’évaporation des composés.