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Cette séance de cours explore l'importance de la micro- et de la nanofabrication dans le domaine de l'optomécanique, mettant en évidence des percées comme les résonateurs toroïdes Q SiO2 ultra-hauts et SBS dans les guides d'onde en silicium. Il couvre des processus de fabrication clés tels que la lithographie, le dépôt de couches, la gravure, la libération de couches et la liaison, mettant l'accent sur des techniques comme la lithographie par faisceau d'électrons et la lithographie optique. La séance de cours se penche également sur des méthodes telles que le revêtement par spin, le CVD, l'évaporation, l'aspersion, la gravure à sec et humide, les processus de levage et la planification. En outre, il traite des défis que posent la libération des couches et le collage dans les dispositifs optomécaniques, soulignant la nécessité de techniques de fabrication et de matériaux précis. L'accès aux technologies de fabrication de pointe par le biais de salles propres ou de services MPW est également abordé.