Séance de cours
Cette séance de cours couvre le processus de gravure humide, y compris la gravure anisotrope et isotrope, la microfabrication à membrane mince et les applications en micro et nanofabrication. Il explique l'utilisation de bains liquides pour l'élimination des matériaux, les réactions chimiques impliquées et des exemples tels que la gravure de substrats d'or et de silicium. La séance de cours traite également de la gravure des couches sacrificielles, du nettoyage des plaquettes «Piranha» et de la réalisation du silicium poreux. Diverses techniques telles que la gravure isotrope de film d'or, la gravure d'un substrat de Si, et la gravure d'une membrane mince de Si sont explorées, ainsi que leurs applications dans le MEMS. Dans l'ensemble, la séance de cours donne un aperçu des principes fondamentaux et des aspects pratiques de la gravure humide en microfabrication.