Lithographie par sonde à balayage: applications à l'échelle nanométrique

Cette séance de cours couvre les principes et les applications de la lithographie par sonde de balayage (SPL) en nanotechnologie, en se concentrant sur des techniques telles que la nanolithographie Dip-Pen (DPN) et la lithographie par sonde thermique. Il traite de l'influence de la mouillabilité de surface, de l'histoire de la SPL thermique et de la caractérisation du diamètre des gouttelettes. La présentation se penche également sur les technologies de stockage de données, y compris le concept Millipede et la feuille de route pour le stockage avancé. En outre, il explore l'écriture thermomécanique avec un microscope à force atomique (AFM) et le fonctionnement du système Millipede développé par IBM Research.

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Séances de cours associées (33)

Concepts associés (50)

MICRO-530: Nanotechnology

This course gives the basics for understanding nanotechnology from an engineer's perspective: physical background, materials aspects and scaling laws, fabrication and imaging of nanoscale devices.

Nanolithography

Nanolithography (NL) is a growing field of techniques within nanotechnology dealing with the engineering (patterning e.g. etching, depositing, writing, printing etc) of nanometer-scale structures on various materials. The modern term reflects on a design of structures built in range of 10−9 to 10−6 meters, i.e. nanometer scale. Essentially, the field is a derivative of lithography, only covering very small structures. All NL methods can be categorized into four groups: photo lithography, scanning lithography, soft lithography and other miscellaneous techniques.

Lithographie à faisceau d'électrons

L'utilisation d'un faisceau d'électrons pour tracer des motifs sur une surface est connue sous le nom de lithographie par faisceau d'électrons. On parle également de lithographie électronique. Par rapport à la photolithographie, l'avantage de cette technique est qu'elle permet de repousser les limites de la diffraction de la lumière et de dessiner des motifs avec une résolution pouvant aller jusqu'au nanomètre. Cette forme de lithographie a trouvé diverses formes d'application dans la recherche et l'industrie des semi-conducteurs et dans ce qu'il est convenu d'appeler les nanotechnologies.

Nanoimprint lithography

Nanoimprint lithography (NIL) is a method of fabricating nanometer scale patterns. It is a simple nanolithography process with low cost, high throughput and high resolution. It creates patterns by mechanical deformation of imprint resist and subsequent processes. The imprint resist is typically a monomer or polymer formulation that is cured by heat or UV light during the imprinting. Adhesion between the resist and the template is controlled to allow proper release.

Interference lithography

Interference lithography (or holographic lithography) is a technique for patterning regular arrays of fine features, without the use of complex optical systems or photomasks. The basic principle is the same as in interferometry or holography. An interference pattern between two or more coherent light waves is set up and recorded in a recording layer (photoresist). This interference pattern consists of a periodic series of fringes representing intensity minima and maxima.

Photolithographie

La photolithographie est l'ensemble des opérations permettant de transférer une image (généralement présente sur un masque) vers un substrat. Cette technique est très utilisée dans l'industrie du semi-conducteur. Les motifs de l'image ainsi transférée deviendront par la suite les différentes zones des composants électroniques (exemple : contact, drain...) ou les jonctions entre ces composants.

Lithographie de sonde de balayage thermique MICRO-530: Nanotechnology

Explore la lithographie par sonde thermique, la nanolithographie Dip-Pen, la mouillabilité de surface, la feuille de route de stockage des données et le concept Millipede.

Microscopie de sonde de balayage MICRO-530: Nanotechnology

Couvre les principes et les applications de la microscopie par sonde à balayage, y compris les principes de fonctionnement, les différents systèmes et les applications d'imagerie.

Lithographie à faisceau focalisé : E-Beam Basics MICRO-530: Nanotechnology

Explore la lithographie UV et DUV, les bases de la lithographie par faisceau d'électrons, les matériaux résistants et l'optique, en comparant EBL avec d'autres méthodes de lithographie.

Microscopie de sonde de balayage : Fondamentaux et applications MICRO-530: Nanotechnology

Explore les principes fondamentaux et les applications de la microscopie à sonde à balayage, y compris la configuration STM, la reconstruction de surface, le tunnel quantique et la microscopie à force de balayage.

Lithographie: Nanoscale Patterning Techniques MICRO-530: Nanotechnology

Explore les fondamentaux de la lithographie, les défis de la nanofabrication et les techniques de structuration avancées pour la production à haute résolution.