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Cette séance de cours couvre les diverses applications des plasmas industriels, y compris les traitements médicaux, la microélectronique et l'industrie spatiale. Il explore les complexités de la chimie du plasma, en discutant des réactions, des collisions et des mécanismes de transfert d'énergie. L'instructeur explique les difficultés à atteindre la chimie du plasma, en la comparant avec les processus de fusion. Des concepts clés tels que les critères de décomposition, la loi de Paschen et les coefficients de Townsend sont explorés en détail, mettant en lumière les principes fondamentaux régissant le comportement du plasma. La séance de cours aborde également la signification des plasmas à basse pression et sans équilibre dans divers processus industriels. Des exemples et des simulations numériques sont utilisés pour illustrer les concepts abordés, fournissant un aperçu complet des aspects pratiques des applications industrielles du plasma.