Pulvérisation: Formation de plasma et dépôt de film mince

Cette séance de cours introduit la pulvérisation cathodique en tant que technique de dépôt physique en phase vapeur, en expliquant comment un plasma est créé, les différentes zones de plasma dans la chambre de pulvérisation et l'optimisation du processus. Il détaille le mécanisme de bombardement ionique pour enlever le matériau d'une cible et le déposer sur un substrat, présentant les étapes impliquées dans la création d'un plasma et le dépôt de couches minces de divers matériaux. La séance de cours couvre également les principes du plasma, son rôle dans la pulvérisation et la transition d'une décharge sombre à une décharge luminescente, essentielle pour les applications de microfabrication.