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Cette séance de cours couvre les bases de l'ingénierie descendante et de l'auto-assemblage ascendant, en se concentrant sur la lithographie au pochoir et la lithographie par sonde à balayage thermique. Il discute des limites de résolution en lithographie, des interactions électron-échantillon, des défis et des opportunités de la lithographie nanostencil, ainsi que des exemples de premiers travaux en nanostencilage. La présentation explore également le pochoir dynamique, le nanostencilage sur des substrats autoportants et la fabrication de nanostructures métalliques à l'aide de la lithographie au pochoir. En outre, il approfondit le processus de la lithographie en boucle fermée, les capacités uniques des lithographies à sonde à balayage thermique et la polyvalence des techniques de nanocoupe pour les matériaux 2D et les appareils électroniques.