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Explore les processus de collision dans les plasmas, y compris le ralentissement du faisceau d'électrons, la résistivité plasmatique et les fréquences de collision.
Explore les limites du chauffage ohmique dans le plasma et les avantages et inconvénients de l'injection de faisceau neutre pour le chauffage plasma supplémentaire.
Explore les défis et les solutions pour gérer la dose d'électrons en microscopie, en soulignant l'importance d'un suivi et d'une analyse précis des doses.
Explore la formation de gaines, la gravure au plasma, la vitesse des ions et l'énergie dans les plasmas industriels, soulignant leur importance pour la fabrication électronique moderne.
Déplacez-vous dans l'effet de diffusion dynamique des franges d'épaisseur dans les images TEM, couvrant les équations, les diagrammes d'intensité et l'imagerie par faisceau faible.
