Séance de cours
Cette séance de cours couvre la structure cristalline du silicium, y compris la représentation du réseau de diamant et la liaison covalente. Il explique l'anisotropie dans les taux de gravure en raison de différentes orientations planes et les forces de liaison. La séance de cours explore également les mécanismes de gravure des atomes de silicium dans différents plans cristallins, en se concentrant sur la gravure KOH et ses vitesses de réaction. Les profils de gravure anisotropes et les bains de gravure comme KOH, EDP et TMAH sont discutés, mettant en évidence leurs compositions et leurs rapports d'anisotropie. Une étude de cas sur un micro-actionneur thermomécanique démontre l'application pratique de la gravure anisotrope. Dans l'ensemble, la séance de cours donne un aperçu des principes fondamentaux et des aspects pratiques de la gravure humide en micro et nanofabrication.