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Introduction de la spectroscopie par photoélectrons à rayons X (XPS) pour l'analyse de surface, couvrant les principes, les applications, le processus d'analyse et les techniques de profilage en profondeur.
Couvre l'algorithme de maximisation des attentes et les techniques de regroupement, en mettant l'accent sur l'échantillonnage Gibbs et l'équilibre détaillé.
Explique la détermination de l'épaisseur du film à l'aide de techniques XPS et AES, couvrant les principes, l'instrumentation et les comparaisons analytiques.
Explore les méthodes d'analyse de surface à l'aide d'électrons, d'ions, d'atomes et de photons, en soulignant l'importance du ToF-SIMS pour une analyse de surface approfondie dans divers domaines.
Explore la formation d'images HRTEM par l'interférence de faisceaux transmis et diffractés, couvrant la fonction de transfert de contraste, la correction des aberrations et les techniques de récupération de phase.
Discute des propriétés, de la sensibilité et du rapport signal-bruit des détecteurs de rayons X, ainsi que des erreurs systématiques comme les corrections de champ plat.
Couvre la spectrométrie de photoélectrons à rayons X (XPS), une technique d'analyse de surface développée par Kai Siegbahn, expliquant ses composants, son mécanisme et ses méthodes d'analyse.
Explore NMF guidé par la physique pour l'analyse de données STEM/EDXS, couvrant les défis, l'optimisation, les contraintes et les avantages de la modélisation.