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Explore les techniques de dépôt physique en phase vapeur (PVD) pour le dépôt de couches minces en nanofabrication, en abordant des problèmes tels que la diffusion du métal et le contact approprié du métal.
Couvre le transport de masse dans la couche limite, le transfert de gaz vers le substrat, le calcul du taux de croissance du film et les résultats expérimentaux.
Explore la préparation de films minces, les mécanismes de croissance, les considérations de film organique, et les techniques de dépôt dans l'électronique.
