Cette séance de cours couvre les réactions chimiques impliquées dans les processus de micro et nanofabrication, en mettant l'accent sur la gravure Si dans les milieux acides. Il explique les réactions globales, le rôle des oxydants et la génération de SiO2. De plus, il examine le diagramme ternaire pour le bain HNA, les courbes iso-étchoises et les profils anisotropes de gravure dans les bains alcalins. La séance de cours explore également la gravure de Si avec le bore, l'origine de l'anisotropie de la gravure, et la gravure isotrope de Si avec le p-doped et le n-doped avec le biais électrique. Il se termine par la formation de n-type poreux Si et de macropores en Si sous haute tension anodique. Le contenu est illustré par des diagrammes et des exemples.