Gravure humide : verre et silicium

Dans cours

DEMO: laboris dolore

Fugiat excepteur ullamco et proident aliqua nostrud sunt in reprehenderit tempor officia ad fugiat. Consectetur fugiat irure quis ea excepteur irure fugiat elit. Sint anim occaecat nulla aliquip.

Connectez-vous pour voir cette section

Description

Cette séance de cours couvre le processus de gravure humide du verre et du silicium à l'aide de solutions à base de HF. Il explique le mécanisme de la gravure HF, l'ajout de NH4F pour améliorer la gravure et l'impact de la composition du verre sur les taux de gravure. La séance de cours détaille également les processus en salle blanche pour les gravures HF et HF (BHF) tamponnées, y compris la gravure Pyrex et la sous-gravure de masque.

Dans MOOCs (3)

Enseignants (2)

excepteur incididunt sunt ullamco

Duis adipisicing aute cillum aliqua ad aliqua minim enim irure et velit. Minim labore duis labore ex ea amet ad amet adipisicing quis ut commodo. Minim velit cupidatat pariatur ad.

incididunt irure

Dolor dolore tempor quis qui aliqua fugiat et. Nulla consectetur cupidatat esse eiusmod pariatur. Anim consequat fugiat enim consequat non nostrud tempor. Ea fugiat mollit labore cupidatat ut in laborum aliquip veniam ut elit proident velit mollit. Ad est aliqua enim fugiat nisi non occaecat anim fugiat sit. Pariatur eu esse reprehenderit occaecat cillum. Laboris ex esse exercitation laboris Lorem non labore ea Lorem est ad pariatur ex.

Connectez-vous pour voir cette section

Source officielle

https://mediaspace.epfl.ch/media/0_mlp43y47

À propos de ce résultat

Cette page est générée automatiquement et peut contenir des informations qui ne sont pas correctes, complètes, à jour ou pertinentes par rapport à votre recherche. Il en va de même pour toutes les autres pages de ce site. Veillez à vérifier les informations auprès des sources officielles de l'EPFL.

Proximité ontologique

Électrotechnique

Électromécanique: Microsystème électromécanique

Séances de cours associées (36)