Génération de plasma et gaine ionique dans la gravure
Graph Chatbot
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AVERTISSEMENT : Le chatbot Graph n'est pas programmé pour fournir des réponses explicites ou catégoriques à vos questions. Il transforme plutôt vos questions en demandes API qui sont distribuées aux différents services informatiques officiellement administrés par l'EPFL. Son but est uniquement de collecter et de recommander des références pertinentes à des contenus que vous pouvez explorer pour vous aider à répondre à vos questions.
Explore les électrodes biomédicales, couvrant la conception, l'impédance, les caractéristiques d'interface et les stratégies pour éviter les dommages aux tissus.
Explore le processus de gravure humide du verre et du silicium à l'aide de solutions à base de HF et de processus en salle blanche pour les etchants HF et BHF.
Explore l'utilisation d'ondes pour le chauffage et l'entraînement du courant dans les tokamaks, en mettant l'accent sur les ondes ICRH et LH, leurs mécanismes et leurs caractéristiques d'antenne.
Explore diverses techniques de gravure sèche pour le silicium et l'équipement utilisé dans le processus, y compris les sources de plasma RF et les graveurs en phase vapeur HF.
Explore la fabrication de dispositifs micro / nanomécaniques, couvrant la libération, la sélectivité, la stimulation, le dépôt, la gravure, la lithographie et les techniques de croissance.
